
产品详情
一 、产品简述
中性硅片清洗剂
主要成分:去离子水、表面活性剂、葡萄糖酸钠、助剂等。
是专门针对硅片材质设计的高效清洗剂,本品能快速去除常见的油渍、污垢。
本品中性配方,不损材料和清洗设备等。清洁力强,乳化性高。本品不含磷、酸和卤素,也无重金属。环保、不可燃烧。
主要理化指标 | |
品名 | 硅片清洗剂 RA-3100 |
外观 | 液体 |
水溶性 | 100%溶于水 |
PH值 | 7-9 |
密度 | 1.0-1.15 |
使用温度 | 常温-80℃ |
二、使用方法
手工清洗 : 将本品1:1-5倍兑水稀释,浸泡或擦拭清洗油污。洗后用清水漂洗。
设备清洗 : 将本品1:10-20倍兑水稀释后使用,加入超声波、喷淋等清洗系统,工作液加温50-60度,设备正常清洗5-15分钟。清洗后用清水漂洗并干燥。
三 、注意事项
本品超浓缩,使用前请搅拌均匀。
本品不可与其他清洗剂、除垢剂混用,可能会造成清洗剂失效或产生无法预料的结果。
本品不可入眼、入口。不可饮用。如不慎入眼请用大量清水盥洗,误服请大量饮水,必要时就医。 儿童不可接触。
建议使用时配戴手套,做好接触防护,使用水枪清洗请做好防飞溅保护。详见MSDS。
请密封储存,存放温度在 5-45℃。存放要求遮阳通风。
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